表面处理装备

精密研磨设备(具体产品请点击左边产品列表。)

大族系列研磨抛光机设备先进,工艺精良,可提供各类五金制品,半导体等材料的减薄,研磨,抛光设备定制和工艺改良处理,研磨抛光技术支持。

 

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双面研磨抛光机:HSP-9B1M-5L/P型 
双面研磨
采用人机界面操作简单
采用铸铁机架运作平稳
采用安全防护链,安全性高
采用气缸加压

 

双面研磨抛光机:HSP-13B1M-6L/P型 
交流变频电机驱动,软启动、软停止,平稳可靠。
龙门结构,刚度好,加工稳定性强。
采用进口轴承,振动小,噪音小,运转平稳顺畅,使用寿命更长久。
上盘设有机械自锁防滑落装置,保障操作安全。
使用了压力预置计数方式控制研磨抛光的压力。
采用自行修盘方式修整研磨盘,保证研磨盘高精度。
上盘设置缓降,防止薄脆工件破碎。

双面研磨抛光机:HSP-16B3MJM-5L/P型

上盘系统设计了三点平衡系统,保证了上盘落下时与下盘的平行度
齿圈,太阳轮、液盆同步齿轮抬升,任意位置自锁可停
抛光机供液系统采用双通道冷却,有效降低抛光过程中盘面的温度
工作过程中水液自动分流,水路液路分离。
传动系统三电机联合拖动,变频调速,实现软启动软停止 。

 

单面研磨抛光机:HSP-24R-3S(L/P )型
采用四柱箱形结构 满足多工位操作方便的工艺求;
下抛光盘水冷结构,有效控制抛光过程中的温度;
采用计数程序控制,可采用时间控制,届 时 自动停车。
设备采用砝码配重,设计快速拆装砝码,装拆方便   快捷,保证抛光过程中的压力恒定;
设备三工位可联动或者单动,根据工艺选用不同的操作方式,满足   批量化生产的需要

 

单面研磨抛光机:HSP-36R-3S型
采用四柱箱形结构 满足多工位操作方便的工艺求;
下抛光盘水冷结构,有效控制抛光过程中的温度;
采用计数程序控制,可采用时间控制,届 时 自动停车。
设备采用砝码配重,设计快速拆装砝码,装拆方便   快捷,保证抛光过程中的压力恒定;
设备三工位可联动或者单动,根据工艺选用不同的操作方式,满足批量化生产的需要

 

数控自动抛光拉丝机

全数控抛光设备,针对不同形状手机外壳等设定不同的抛光动作,精 密抛光每个角度。 
用于铝镁合金,不锈钢,铝,锌合金等金属产品的表面处理。 
抛光头可根据产品形态调节(180°旋转、上、下、左、右、前进、后退)。
自动抛光轮损耗补偿。 
电脑程序控制
注:通过更换抛光耗材可实现打磨,抛光,拉丝等多种复合型工艺

研磨抛光耗材系列

福吉米抛光液—现货供应,价格实惠

 

POLIPLA系列抛光液为一种主要由氧化铝成分合成的复合型抛光液,适用于树脂镜片、金属、手机镜片的抛光,其中磨料比例与硬度的适当配合,大大提高功效的时间,可以完全保障镜片、金属表面的高度光洁。

技术参数

项目 制品名

103 103A 107A 700
pH 3.5 3.7 3.6 3.3
平均粒径
Averageparticlesize(um)
1.30 1.30 1.30 2.80
比重
Specificgravity
1.160 1.155 1.160 1.205
研磨能率
Polishingrate(g/5min)
0.11 0.12 0.13 0.16
面粗さ
SurfaceRoughness[Ra](nm)
24 24 24 25

使用方法:
1.请使用前先摇匀; 
2.在使用时,可用少量的水加以稀释。
储存方法: 
1.贮存时应避免曝晒,贮存温度为5-35℃ 
2.低于0℃以上储存,防止结冰,在零度以下因产生不可再分散结块而失效。 
3.避免敞口长期与空气接触。 
安全处置: 
1.车间内必须保持良好的通风状况。 
2.避免放置在儿童能接触到的地方。如与眼睛或皮肤接触,请用大量清水冲洗。 
3.在使用时请勿进食或吸烟。
4.使用前可参阅安全技术说明书。


氧化铝抛光液 

   本系列产品为乳白色胶体水溶液,产品内含粉体内核坚实,粒径分布均匀,根据不同的加工需要最小粒径可达20nm,抛光研磨过程中摩擦系数大,效率高,能取得较高的抛光效率和表面质量。尤其针对金属材料表面研磨抛光加工,可取得超镜面效果。

技术参数



产品特征:

 

1. 软硬度适中、不划伤被抛物面。  2. 悬浮性好,不易沉淀,使用方便。  3. 分散性好、乳液均一,极大提高了抛光效率和精度。

 

适用范围:

 

可适用于晶体表面、宝石、光学镜头、微晶玻璃基板、玻璃制品、金属制品、半导体材料、等方面的精密抛光。 

 

 

 

 

氧化硅抛光液 

   

产品介绍:   

   

 引进日本FUJIMI公司配方专利生产,适应半导体材料如硅片,锗单晶片,砷化镓晶片,硬盘玻璃,蓝宝石晶片,氮化硅晶片的(CMP)化学表面抛光工艺,具去除速率高、使用方便、抛光效果好等特点。抛光后晶片表面的粗糙度可以达到0.2nm以下,同时可以提高晶片的粗糙度和平行度等,而且无划伤,无抛光雾。本公司在为用户提供高质量产品的同时,又降低了加工成本,本系列产品是替代进口产品的最佳选择。 形 状:

       本产品属乳白胶体水溶液,无毒、无臭         比重d20度(c)1.20-1.30。钠含量小于0.025%

氧化硅抛光液

 

产品特点:

 

① 去除效率高:可达到0.9-1.2nm/min,降低抛光工艺所需要的时间,提高生产 效率,循环使    用,稀释比例大。 

② 使用方便:本抛光液适用于通用的抛光工艺。  ③抛光效果好:抛光表面粗糙度好无划伤,不会出现抛光雾。

 

使用范围:    

本系列产品适用于直拉、区溶单晶硅,直径Φ76-150mm的原始硅片、掺杂硅片的单面双面的抛光;以及其它半导体材料金属材料如:蓝宝石,锗片,砷化镓片,不锈钢,铝合金等抛光工艺;同时还适用于光学晶体材料如:铌酸锂的抛光工艺。平均粒径:10-130nm粗抛、中抛、精抛可选。

 

使用工艺:

技术参数:抛光压力150-250g∕㎝″  抛光温度:30-45℃  抛光时间:20-30min

 

 


金刚石抛光液

   产品概述:

 

金刚石研磨液由磨料颗粒分散于介质制备而成,是一种具有优良化学机械性能的研磨产品,广泛用于硅片、化合物晶体、光学器件、液晶面板、宝石、金属工件的研磨和精密抛光。

 

产品分类

①  单晶金刚石研磨液  ②  多晶金刚石研磨液  ③  类多晶金刚石研磨液  ④  纳米金刚石研磨液 

适用范围

 

聚晶金刚石抛光液

利用聚晶金刚石的特性,在研磨抛光过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤。主要用于蓝宝石衬底、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、磁头、硬盘、芯片等领域的研磨和抛光。

 

单晶金刚石抛光液

具有良好的切削力,加工成本相对较低。广泛应用于超硬材料的研磨抛光    

 

纳米金刚石抛光液

纳米金刚石球形形状和细粒度粉体能达到超精密的抛光效果,且具有良好的分散稳定性,能保持长时间不沉降,粉体在分散液中不发生团聚。广泛用于硬质材料的超精密抛光过程,可使被抛表面粗糙度低于0.2nm。

 

 


氧化铈抛光液

 

应用范围:

 

1、 硅晶圆片抛光;锗片抛光;砷化镓抛光;磷化铟抛光;光学晶体抛光;蓝宝石衬底抛光;

 

2、 LED衬底抛光;硒化锌抛光;光纤连接器抛光;光纤跳线抛光;玻璃抛光;石英抛光;

 

产品特点:

 

新开发的以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点

 


海绵砂纸(条)

 

 

适用范围:

海绵砂纸适用于手工自动打磨家具,塑胶产品,金属产品表面抛光,汽车维修补漆处打磨,金属锈斑及塑料的表面处理,可根据客户要求定做海绵砂块或者海绵砂条,背绒后可以结合自动化打磨设备使用。

 

产品特点:

 

具有耐水,耐酸碱等显著特点。特点:柔软干磨、湿磨均可,可清洗,可重复使用

 


飞翼轮

 

 

 

适用范围

主要用于不锈钢板、铝板及不锈钢或铝等卷料表面直丝(长丝、头发丝、尼龙丝或HL)丝纹的加工处理,操作简单、性能稳定、加工效果理想、加工成本较低等特点,主要满足各个不锈钢板、铝板等加工厂或公司对直丝(长丝、头发丝、尼龙丝或HL)丝纹加工的要求, 粗粒可制造出各种精度不同的雪花纹、拉丝纹、波浪纹等.   

 

产品特点

 

1. 均一性好:抛光拉丝后丝路不会出现深浅不一,主要体现丝路均匀一致,出丝快捷,工件效率高。 

2. 散热性能良好:使工件表面在研磨时不会因过热而发黑、变色或留下残胶, 且拉丝快,丝路清晰,效果好,不留残胶,不留黑。 

3、适用范围广泛,用于各种材质工件拉丝。

 


湿式抛光轮

 

 

适用范围:

  广泛用于有色金属,硬质合金和各种非金属材料的研磨、精磨、超精磨和镜面磨削。如:不锈钢制品,不锈钢刀剪、餐具、真空保温杯的表面研磨抛光;铜、铝制品、金属表带、灯饰表面抛光、高尔夫球头制造、薄铜面去除氧化层、研磨、抛光;显像管玻壳和LCD平面、玻璃、宝石、大理石的精磨和抛光、飞机、汽车配件的超精磨等。

 

产品特点:

 具有丰富、均匀的微气孔,有超强的弹性、韧性、吸水性;强度高、可塑性强、锋利耐磨,自锐性好,干湿磨效果理想。

 
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